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                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      2030年に1,000層の「超高層セル」を実現するSamsungの3D NAND技術

                      (2024/1/5)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      次世代DRAMの研究開発成果が続出する12月開催のIEDM 2023

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                      (2021/11/11)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      高密度の埋め込みフラッシュ技術をSamsungとGFがIMW 2021で発表

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                    • Samsung、ハイパースケールデータセンター向けSSDの量産開始

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                    • 【IEDM 2020レポート】Samsung、切手大のLiDARを実現するワンチップのスキャナを試作

                      (2021/1/12)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      Samsung/IBM/TSMC/GFがMRAM開発の最新成果を披露

                      (2020/12/26)

                    • スタンフォード大、10,000ppiを実現するOLED製造技術

                      〜ソーラーパネルの技術を応用

                      (2020/10/26)

                    • Samsung、業界初のスマホ向け16Gbit LPDDR5チップを量産。EUV 10nmプロセスで製造

                      (2020/9/1)

                    • Samsung、業界初となるEUV 7nm/5nmの3D積層技術

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                    • Samsung、人間の目を超える6億画素イメージセンサーを開発へ

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                    • Samsungが1Gbitの大容量埋め込みMRAMを開発

                      ~IEDM 2019 イベントレポート

                      (2019/12/19)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      東芝-WD連合の3D NAND、製品の量産にSamsungの技術を採用

                      (2019/12/12)

                    • IEDM 2019、5nmのCMOSロジックやL4キャッシュMRAMなどに注目

                      (2019/12/11)

                    • Samsung、スマホで12GBメモリを実現するLPDDR5を量産開始

                      (2019/7/19)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      3D NANDフラッシュの技術開発を先導し始めた東芝-WD連合

                      (2019/3/18)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      EUV露光による先端ロジックと先端DRAMの量産がついにはじまる

                      (2018/12/25)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      Samsung/GF/Intel/東北大学が明らかにしたMRAMの最新技術

                      (2018/12/17)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      微細化に頼らずに大容量化を進める次世代DRAM技術

                      (2018/12/6)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      近未来の社会を支える半導体チップが来年2月の「ISSCC 2019」に大集合

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                      (2018/10/18)

                    • Samsung、10%低電力化した10nmクラス第2世代LPDDR4X DRAM

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                    • Samsung、転送レート51.2GB/sの10nm級8Gb LPDDR5を開発

                      (2018/7/17)

                    • Samsung、Toggle DDR 4.0採用で速度向上した第5世代V-NANDメモリ

                      (2018/7/10)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      完成に近づいた、SamsungのEUVリソグラフィ採用7nm半導体量産技術

                      (2018/6/29)

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                      ~富士フイルムの新材料を採用

                      (2018/6/28)

                    • 最先端3D NANDフラッシュに隠されていた事実

                      ~国際メモリワークショップ(IMW)2018レポート

                      (2018/5/15)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      3D NAND技術の開発競争で東芝-WD連合とSamsungが激突

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                    • Samsung、業界初となる容量16GbのGDDR6

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                    • Samsung、307GB/sの帯域を誇る第2世代8GB HBM2を量産開始

                      (2018/1/11)

                    • 福田昭のセミコン業界最前線

                      EUVを使わずに微細化の極限を目指す半導体製造技術

                      (2018/1/8)

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