キヤノン、はんこのように半導体回路を形成する「ナノインプリント」技術の解説動画公開

　キヤノン株式会社は、同社が開発を進めている新たな半導体製造技術「ナノインプリントリソグラフィ」について、その仕組みを解説する動画を公開した。15nm以下の線幅をシンプルなプロセスで安価に製造できるとしている。

　ナノインプリントリソグラフィは、ウェハ上に樹脂(レジスト)を塗布し、回路パターンを刻み込んだマスク(型)押し当てることで回路を形成する手法。塗布する樹脂の量やマスクとウェハの位置の正確な調整、微小な粒子の除去といった課題を総合的な技術開発により課題を解決し、実現したという。

　はんこのように型を押しつけるナノインプリントリソグラフィは、光で回路を焼き付ける露光方式と比べて仕組みがシンプルなため、工程の簡略化や消費電力の抑制による大幅なコストダウンが見込めるという。また、非常にシャープな回路パターンを形成できるため、不良率の低減も期待できるとしている。