Intel、9千億円超の設備投資。アイルランド拠点強化でXeon増産へ

　Intelは7月13日、アイルランドのリークスリップ(Leixlip)キャンパスに50億ユーロ(約9,245億円)の設備投資を行なうと発表した。生産能力を拡大し、Xeon 6およびIntel 3を採用する次世代Xeonの供給を目指す。

　同社は今回の投資を通じて、既存の製造設備をアップグレードするとともに、最先端の製造設備をリークスリップキャンパスに導入。自動化トラックシステムを拡張したり、キャンパス内のモジュールを高速生産環境に統合したりするなど、主要インフラの強化を図る。あわせて、同社におけるハイテク分野の正社員や、建設・設備導入に関わる人材などの雇用創出も見込む。

　これにより、同キャンパスの生産能力や研究開発能力を引き上げ、欧州における半導体サプライチェーンを強化。AIやHPC需要で重要性が高まっているデータセンター向けCPUのXeon 6や、Intel 3ベースで製造される次世代Xeonの増産を目指す。