東京エレクトロン、オランダのimec-ASML 高NAラボと提携。微細化対応技術で

オンライン調印式の様子

　東京エレクトロンは、オランダのimec-ASML 共同高 NA EUV 研究所(高NAラボ)と提携し、2023年に同ラボが稼働開始予定の次世代高NA EUV露光装置とインライン(一体化)させた塗布現像装置を導入すると発表した。

　高NA EUV露光装置は、従来のEUV露光装置を上回る、さらなる微細化対応技術として期待されているもの。今回東京エレクトロンが高NAラボに導入予定の塗布現像装置は、従来より広く使用されている実績のある化学増幅型レジストや下層膜の対応のみならず、高い解像度、高いエッチング耐性が実証されており、さらなる微細パターン向けレジストとして期待されている「塗布型メタル含有レジスト」にも対応するプロセスモジュールを搭載する。

　このモジュールにより、化学増幅型レジスト、メタル含有レジスト、および下層膜などさまざまな材料を1台の装置でインライン処理可能になり、生産性と高稼働率も両立した。

　今後両社は連携して技術開発も進め、更なる微細化のニーズに応えるとしている。