大日本印刷、2nm世代のEUV露光向けフォトマスク製造プロセス開発を本格化

フォトマスクの保護フィルムであるペリクル付きEUVリソグラフィ向けフォトマスク

　大日本印刷株式会社は、2nm世代ロジック半導体のEUV(極端紫外線)リソグラフィ(露光)向けフォトマスク製造プロセスの開発を本格的に開始したと発表した。

　同社では、2023年に3nm世代のEUVリソグラフィ向けフォトマスク製造プロセスの開発を完了し、2nm世代の開発をすでに開始している。さらなる微細化のニーズに応えるため、2024年度中には2台目と3台目のマルチ電子ビームマスク描画装置を稼働させるなど、開発を本格化するという。

　今後は、2025年までに2nm世代向けの開発を完了し、2027年度の量産開始に向けた生産技術の確立を進める。さらに、2nm世代以降を見据え、次世代EUV向けフォトマスクの共同開発に関する契約をimecと締結した。