ASML製の最新EUV露光装置がIntelに到着。開封の儀を公開

　Intelは2日、ASML製のHigh NA EUV露光装置が米オレゴン州の工場に納入される様子を動画にて公開した。映像では、装置が飛行機やトラックを使って輸送され、工場に設置されてカバーが外される様子などが収められている。2022年1月にIntelがASMLへ発注した次世代システム「TWINSCAN EXE:5200」の主要コンポーネントが納入されたかたち。

　Intelでは、High NA EUVでの量産製造の開始時期について、2025年を目標として定めているが、その実現に向けた動きの1つとなる。ASMLとの間ではHigh NA化に向けた協力体制をこれまで築いており、今回導入するシステムの前身となる「TWINSCAN EXE:5000」も2018年にASMLへ発注していた。

　TWINSCAN EXE:5200は、TWINSCAN EXE:5000と同様に光学系の開口数(NA)が0.55となっており、前世代のシステムと比べて微細なパターニングが可能になった。時間あたり200枚以上のウェハ生産を可能にする量産システムとなる。