Micron、1γノードDRAM製造に向け、広島工場にEUV技術導入

Micron広島工場(出典:Micron Technology)

　Micron Technologyは、同社の広島工場にEUV(極端紫外線)技術を導入し、1γノードによる次世代DRAM製造を行なうと発表した。1γプロセス技術に対し、日本政府による支援を前提に、今後数年で最大5,000円億円を投資する見込みだとしている。

　広島工場では同社初となる1βによる量産を開始しているが、1γはこれに続く先端プロセス技術となる。EUV技術の量産への導入については、半導体企業として国内初だとしており、広島工場は1γノード開発で重要な役割を果たしていくとしている。

　同社では、2025年以降に台湾と日本でEUVによる1γ立ち上げを計画中。今後も継続して取り組みを進め、急速に台頭する生成系AIアプリケーションをはじめとした技術革新をサポートしていくという。