低温プロセスの垂直方向エッチング(「クライオジェニック・エッチング」と呼称)(左)とエッチング速度(右)。低温環境下で低分子量のエッチングガスを使うことで、側壁エッチングを防ぐ高分子膜を薄くし、より多くのエッチングガス分子を送り込めるようにした。SamsungがIMW 2023で公表した論文(論文番号1.3)から

低温プロセスの垂直方向エッチング(「クライオジェニック・エッチング」と呼称)(左)とエッチング速度(右)。低温環境下で低分子量のエッチングガスを使うことで、側壁エッチングを防ぐ高分子膜を薄くし、より多くのエッチングガス分子を送り込めるようにした。SamsungがIMW 2023で公表した論文(論文番号1.3)から