メモリセルの構造(左)と強誘電体キャパシタの製造プロセス(中央)、メモリセルの断面観察写真(右)。ソニーセミコンダクタソリューションズなどの共同研究チームが2020年6月に国際学会VLSIシンポジウムで講演したスライドから(講演番号TF2.1)
