キオクシアとWestern Digitalが共同開発した、300層以上の3D NANDフラッシュメモリに向けたメモリチャンネルホールの横方向Si単結晶成長技術(番号T7-1)。2023年4月25日に開催された記者会見の資料から

キオクシアとWestern Digitalが共同開発した、300層以上の3D NANDフラッシュメモリに向けたメモリチャンネルホールの横方向Si単結晶成長技術(番号T7-1)。2023年4月25日に開催された記者会見の資料から