試作した埋め込みPCMメモリセルの断面を電子顕微鏡で観察した画像。コンタクトと第1金属配線の間に記憶素子を形成した。STMicroelectronicsが2018年12月に国際学会IEDMで講演したスライドから

試作した埋め込みPCMメモリセルの断面を電子顕微鏡で観察した画像。コンタクトと第1金属配線の間に記憶素子を形成した。STMicroelectronicsが2018年12月に国際学会IEDMで講演したスライドから