Intel、300mmウェハの研究実証施設「RP1」を開設

5月14日(現地時間) 発表



　米Intelは14日(現地時間)、300mmウエハ対応の研究施設「RP1」を米オレゴン州ヒルスボロに開設したと発表した。RP1には2億5千万ドルが投資され、300mmウエハに対応したプロセス技術の研究と実証作業が行なわれる。

　RP1は、数世代先のシリコン技術の開発を行なっているIntel Labsの一部門となり、コンポーネント研究ラボの拠点となる。RP1の総床面積は約5,200平方メートルのクリーンルームを備え、D1C(量産開発施設)とFab20(量産施設)に隣接している。

□Intelのホームページ
http://www.intel.com/
□ニュースリリース(英文)
http://www.intel.com/pressroom/archive/releases/20010514tech.htm
□ニュースリリース(和訳)
http://www.intel.co.jp/jp/intel/pr/press2001/010515.htm
□Intel Labsのホームページ(英文)
http://www.intel.com/labs/

(2001年5月15日)

[Reported by date@impress.co.jp]

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