Intelの最高情報責任者(CIO)が来日
~IT投資で製造プロセス立上げ期間を短縮

Intelのダグラス・ブッシュ副社長兼最高情報責任者(CIO)

5月23日



 Intelのダグラス・ブッシュ副社長兼最高情報責任者(CIO)が来日、同社における2001年のIT投資額が10億ドルに上ったことを明らかにし、その効果について語った。この中で、IT投資による生産性向上の例として、同社のエンジニアリングと製造での実績を披露した。

 ブッシュCIOによると、エンジニアリング面では、'82年から2001年までの間にトランジスタ数が100倍に増え、設計の複雑さが増大したにも関わらず、IT投資のおかげでエンジニア数を10倍に留めることができ、さらに設計能力を1万倍にすることができたという。

 また製造面では、0.25μmから0.13μmまでの製造プロセス立ち上げ速度を比較、量産開始可能な歩留まりに達するまでの期間が、0.13μmプロセスでは大幅に短縮されたとした。

Intelにおけるエンジニア数と設計能力、トランジスタ数の推移を比較 0.25μm、0.18μm、0.13μm(200mmウエハと300mmウエハ)の立ち上げ期間を比較 Intel社内のIT環境は、'88年から2001年までに大幅に増強された

 このほか、社外との取引にWebサービスを活用していること、今後は無線LANとコラボレーション(遠隔会議など)の向上に務める予定であること、などを明らかにした。

 CIOは、Intel社内では2月に制定された役職で、ITによって同社の生産性向上を図る責を負う。以前から同様な役職はあったが、2月に役職名を一般的な「CIO」に改めたという。

□Intelのホームページ(英文)
http://www.intel.com/
□IT@Intel(英文)
http://www.intel.com/eBusiness/IT/
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【3月1日】インテル インダストリ フォーラム2002でバレットCEOが基調講演
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2002/0301/intel.htm

(2002年5月23日)

[Reported by tanak-sh@impress.co.jp]

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