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Intelが開発したCFET技術の概要(講演番号T5.2)。従来のレイアウトとは異なり、ボトム側がnチャンネルFETとなる。2026年4月28日に東京で開催された記者会見の資料から
福田昭のセミコン業界最前線
生成AIと半導体の未来を紐解く「VLSIシンポジウム2026」ハワイで開催
2026年6月15日
FET発明100周年とAI時代の展望。VLSIシンポジウム2025、京都でスタート
2025年6月9日
性能が18%も向上した「Intel 3」プロセスの仕組み
2024年6月20日
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