VLSI技術シンポジウム、次世代のトランジスタ技術と不揮発性メモリ技術を展望(17/24)

配線ピッチを28nm以下に狭くするデュアルダマシンプロセス(IBM Research、講演番号T5-2)。出典:VLSI技術シンポジウム委員会