完成に近づいた、SamsungのEUVリソグラフィ採用7nm半導体量産技術(6/8)

折れ曲がりのある配線パターンにおける解像度の違い。左はEUVリソグラフィ(シングル露光)、右はArF液浸リソグラフィ(マルチパターニング) 出典: VLSIシンポジウム委員会