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プロセスルールの微細化とともにトレンドも変化
TSMC、EUVを用いた5nmプロセスの設計基盤を提供開始
2019年4月8日
TSMC、7nm比で18%密度向上となる6nmプロセス「N6」
2019年4月18日
TSMC、EUV露光による7nm量産を第2四半期より開始
2019年2月13日
GLOBALFOUNDRIES、米・独でTSMCに対し特許侵害訴訟を提起
2019年8月27日
TSMC、EUV露光による7nm製品を他社に先駆け量産開始
2019年10月8日
TSMCとGLOBALFOUNDRIESが訴訟を取り下げ、包括的クロスライセンスを締結
2019年10月29日
米国の香港優遇措置解除で半導体メーカーの戦略に難局
2020年7月3日
TSMC、3nm以降の次世代プロセスも順調。熊本工場は2024年末までの生産開始を目指す
2023年7月3日
