Samsung ElectronicsがEUV採用の7nm製造技術によって試作した256Mbit SRAMシリコンダイの写真。シリコンダイ面積は69.3平方mm ※国際学会ISSCC 2018の発表スライドから引用

Samsung ElectronicsがEUV採用の7nm製造技術によって試作した256Mbit SRAMシリコンダイの写真。シリコンダイ面積は69.3平方mm ※国際学会ISSCC 2018の発表スライドから引用