前の画像
次の画像
記事へ
従来(14nmプロセス)のダブルダミーゲート(左)と10nmプロセスのシングルダミーゲート(右)。同じイベントでKaizad R. Mistry氏が示したスライド
Intelが14nm世代による大規模SoC技術の概要を公表
2015年6月18日
次期プロセッサを担う14nm CMOS技術をIntelとIBMが披露
2014年12月17日
連載後藤弘茂のWeekly海外ニュース
2015年CPU「Skylake」の進化を促すIntelの14nmプロセス
2014年8月25日
Intelの「Broadwell」を支える強力な14nmプロセス
2014年8月21日
福田昭のセミコン業界最前線
12月開催のIEDM 2017で披露される次世代の半導体製造技術とメモリ技術
2017年10月26日
「生死不明」のムーアの法則
2017年11月10日
EUVを使わずに微細化の極限を目指す半導体製造技術
2018年1月8日
【インテル・トリニティの生涯】ゴードン・ムーア:インテルを最も長く愛し続けた男
2023年4月18日
【インテル・トリニティの生涯】ロバート・ノイス:ノーベル賞を「2度も」獲り損なった男
2023年4月27日