FinFETのフィン断面を電子顕微鏡で観察した像。22nmプロセスのフィンピッチは60nm、フィンの高さは34nm。14nmプロセスのフィンピッチは42nm、フィンの高さは42nmである。そして10nmプロセスではフィンピッチを34nmに狭めるとともに、フィンの高さを53nmと上げた。14nmプロセスと比べ、フィンピッチは0.81倍、フィンの高さは1.26倍になっている。同じイベントでKaizad R. Mistry氏が示したスライド
