10nmプロセスにおけるハイパースケーリング(一部のみ)。10nmプロセスで初めてSAQP(Self-Aligned Quadruple Patterning)技術をリソグラフィに採用した。同じイベントでKaizad R. Mistry氏(コーポレート・バイスプレジデント、Technology and Manufacturing Group)が示したスライド
