NAが0.55のEUV光学系を開発するプラットフォームの模式図。2個の巨大な円筒形の真空容器(図面の中央)や反射鏡を扱うロボットクレーン(図面の右端にあるオレンジ色の機械)などで構成される。2018年9月にASMLが国際学会「EUVL Symposium」で公表したスライドから
