EUV露光とマルチパターニング(多重露光)の組み合わせによる解像度(ハーフピッチ)とスループット(1時間当たりのウェハ処理枚数)の変化。ハーフピッチが12nmのパターンの場合、開口数(NA)を0.55に高めるとシングル露光が適用できるのでスループットが大幅に向上する。ASMLの公表資料から筆者がまとめたもの
