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EUVリソグラフィ技術の微細化ロードマップ(右端のグラフ)。ASMLが2016年10月31日に開催したアナリスト向け説明会「Analyst Day」で示した講演スライドから
連載福田昭のセミコン業界最前線
高NA化で「3nm世代」の超高難度製造を狙うEUV露光技術
2017年3月23日
IntelとSamsungが7nmロジック量産への適用を目指すEUV露光技術
2017年3月17日
両極端に分かれたIBMとTSMCの次々世代半導体製造技術
2016年12月9日