3nmロジックの量産を狙うEUVリソグラフィの高NA化技術(4/14)

NAの向上とコントラスト(NILS)、倍率の関係。2016年6月に開催された国際学会「EUVL Workshop 2016」でASMLとCarl Zeiss SMTが共同で発表したスライドから