EUVリソグラフィの光学系を高NA化するときに問題となる部分(模式図)。高NA化とは、レチクルで反射させる光線の角度と、ウェハに投影する光線の角度を広げることに等しい。すると技術的な課題が生じる。2016年6月に開催された国際学会「EUVL Workshop 2016」でASMLとCarl Zeiss SMTが共同で発表したスライドから
