高NA化で「3nm世代」の超高難度製造を狙うEUV露光技術(2/7)

EUV露光技術の解像度。プロセス係数(k1)を0.34と想定して計算したもの。このプロセス係数はかなり甘めである。実際の解像度はもっと低くなる可能性が高い