2M個のメモリ・セルを内蔵した相変化メモリのシリコン・ダイ写真。左は金属配線を形成後、右は金属配線を形成前に撮影したもの

2M個のメモリ・セルを内蔵した相変化メモリのシリコン・ダイ写真。左は金属配線を形成後、右は金属配線を形成前に撮影したもの