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VLSIシンポジウムの注目講演(1,000層を目指した超高層3D NANDフラッシュ)。筆者が同シンポジウムのプログラムおよび論文からまとめたもの
福田昭のセミコン業界最前線
生成AIと半導体の未来を紐解く「VLSIシンポジウム2026」ハワイで開催
2026年6月15日
2030年に1,000層の「超高層セル」を実現するSamsungの3D NAND技術
2024年1月5日
技術革新を迫られるNANDフラッシュの高密度化
2023年11月29日