隣接セル間の干渉を抑える「Confined SN」技術。左は構造図。青い部分がワード線(ゲート)金属、白い部分がエアギャップ。黄緑色の部分が絶縁膜、やや濃い緑色の部分(垂直の線)がトンネル絶縁膜。右はセルストリングの断面を電子顕微鏡で観察した画像。MicronがIMW 2025で発表した論文から(論文番号1.1)
