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3D NANDフラッシュの高層化限界とキオクシアの代替案。キオクシアがIEDM 2024で発表した講演のスライド(講演番号30-1)と研究論文(論文番号30-1)から筆者がまとめたもの
福田昭のセミコン業界最前線
2030年に1,000層の「超高層セル」を実現するSamsungの3D NAND技術
2024年1月5日
技術革新を迫られるNANDフラッシュの高密度化
2023年11月29日
Western Digitalが明らかにする3D NANDフラッシュの「不都合な真実」
2023年8月28日