スタンダードセルの高さを4トラックと低くしたスタンダードセルの配線工程(講演番号23.2)。左と中央は工程の模式図。絶縁膜(緑色)をハードマスクとして配線(桃色)のパターンを2段階のエッチングによって形成する。最初のエッチングではビアまでを加工する。次にビアをマスクとする自己整合技術によって最下層の配線をエッチングし、セル間を分離する。右は配線工程が完了した後の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)によって観察した画像。imecが2022年12月8日に配布したニュースリリースから

スタンダードセルの高さを4トラックと低くしたスタンダードセルの配線工程(講演番号23.2)。左と中央は工程の模式図。絶縁膜(緑色)をハードマスクとして配線(桃色)のパターンを2段階のエッチングによって形成する。最初のエッチングではビアまでを加工する。次にビアをマスクとする自己整合技術によって最下層の配線をエッチングし、セル間を分離する。右は配線工程が完了した後の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)によって観察した画像。imecが2022年12月8日に配布したニュースリリースから