EUV露光装置の光学系(模式図)。左端にある光源から出たEUV光は、照明光学系(illuminator)を経て中央上のマスクにいたる。マスクで反射されたパターンは、投影光学系(projection optics)を経て右下のウェハに転写される。Carl Zeiss SMTが2018年6月に国際学会「2018 EUVL Workshop」で公表したスライドから
