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次期量産用EUV露光装置(EUVスキャナ)「NXE:3400C」の概要。ASMLが2018年12月に国際学会IEDMのショートコースで講演したスライドから
福田昭のセミコン業界最前線
EUV露光による先端ロジックと先端DRAMの量産がついにはじまる
2018年12月25日
連載福田昭のセミコン業界最前線
IntelとSamsungが7nmロジック量産への適用を目指すEUV露光技術
2017年3月17日
2020年も半導体はおもしろい(前編)
2020年1月30日
ASML製の最新EUV露光装置がIntelに到着。開封の儀を公開
2024年3月7日