EUVを使わずに微細化の極限を目指す半導体製造技術(1/14)

最近の国際学会で発表された最先端ロジックプロセス(CMOSプロセスのプラットフォーム)の例。IEDMとVLSIシンポジウム、ISSCCの発表から筆者がまとめたもの