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Samsung、EUVリソグラフィ採用の7nm FinFET技術を公表
2017年6月8日
Samsung、第2世代10nm FinFETの生産準備が完了。10%性能向上、15%省電力化
2017年4月21日
Samsung、10nm FinFETプロセスの生産は歩留まり良好で好調と報告
2017年3月16日
福田昭のセミコン業界最前線
EUVを使わずに微細化の極限を目指す半導体製造技術
2018年1月8日