浮遊ゲート方式の3D NANDセルの作製手順。チャンネル用ホールを開口してから制御ゲートを浅く削り、IPD層と浮遊ゲート層を形成する

浮遊ゲート方式の3D NANDセルの作製手順。チャンネル用ホールを開口してから制御ゲートを浅く削り、IPD層と浮遊ゲート層を形成する