浮遊ゲート方式の3D NANDセルの構造。緑色の部分が制御ゲート層、橙色の部分がゲート間絶縁膜(IPD)層、黄色の部分が絶縁層、青紫色の部分が浮遊ゲート層、桃色の部分がトンネル絶縁膜、水色の部分がチャンネルである

浮遊ゲート方式の3D NANDセルの構造。緑色の部分が制御ゲート層、橙色の部分がゲート間絶縁膜(IPD)層、黄色の部分が絶縁層、青紫色の部分が浮遊ゲート層、桃色の部分がトンネル絶縁膜、水色の部分がチャンネルである