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EUV露光による半導体量産に向けた動き
福田昭のセミコン業界最前線
完成に近づいた、SamsungのEUVリソグラフィ採用7nm半導体量産技術
2018年6月29日
Samsung、FinFETからGAA FETへの移行を3nm世代へ後ろ倒し
2018年5月24日
AMD、次期「Zen 2」および「Navi」はTSMCの7nmプロセスで製造へ
2018年8月28日
Samsung、EUV 7nm LPPの開発が完了。ArF液浸露光から大幅コストダウン
2018年10月18日