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M6レンズとM5レンズに孔を開けて光線の角度を小さくした光学系。国際学会「2016 EUVL Symposium」でASMLとCarl Zeiss SMTが共同発表したスライドから
連載福田昭のセミコン業界最前線
高NA化で「3nm世代」の超高難度製造を狙うEUV露光技術
2017年3月23日
IntelとSamsungが7nmロジック量産への適用を目指すEUV露光技術
2017年3月17日
両極端に分かれたIBMとTSMCの次々世代半導体製造技術
2016年12月9日