EUVリソグラフィの光学系(模式図)。左下の「Souce Module(光源モジュール)」と「Collector(集光器あるいはコレクタ)」がEUV光源である。強力なレーザー光(炭酸ガスレーザー光)によって高温のプラズマを発生させ、その光をコレクタによって中央上部の「Intermediate focus(中間集光点)」に集める。それから「illuminater(照明光学系)」によって光線の形状を整え、回路パターンを描いた「Reticle(レチクル)」に入射させる。レチクルで反射された光線は、右端の「Projection optics(投影光学系)」を通じて右下のシリコンウェハに達する。2009年に開催された国際学会「International Symposium on Extreme Ultraviolet Lithography(2009 EUVL Symposium)」でCarl Zeiss SMTが発表したスライドから