書き込み不良率(WER)を低減していった様子。左は初期段階。中央は改良フェーズ1の段階。右は改良フェーズ2の段階。いずれもMTJで自由層の材料を変更している。MTJの形状は楕円形で、大きさは短辺が85nm、長辺が240nm

書き込み不良率(WER)を低減していった様子。左は初期段階。中央は改良フェーズ1の段階。右は改良フェーズ2の段階。いずれもMTJで自由層の材料を変更している。MTJの形状は楕円形で、大きさは短辺が85nm、長辺が240nm