最先端製造技術のロードマップ。32nmプロセスと28nmプロセスではすべて、高誘電率膜/金属ゲート(HKMG)技術を導入する。現在量産中のプロセスおよび40nmプロセスは、従来技術の延長となる多結晶シリコン系ゲート技術
