【IRPS 2009レポート】先端プロセス編
(5/11)
前の画像
この写真の記事へ
次の画像
実験条件の概要
前の画像
この写真の記事へ
次の画像
関連記事
【2008年10月22日】【TSMC2008】液浸露光で28nmを加工した微細なSRAMセルを試作
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2008/1022/tsmc.htm
【2008年6月20日】【VLSI2008】IBMグループ、32nmのHigh-k/メタルゲート技術を公表
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2008/0620/vlsi01.htm
【2007年12月12日】【IEDM2007】Intel、量産用45nmプロセスの詳細を公表
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2007/1212/iedm03.htm
