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EUVリソグラフィ用フォトマスク上の線幅17nmのLine&Spaceパターン画像
大日本印刷、3nm相当のEUV露光向けフォトマスク製造プロセスを開発
2023年12月12日
大日本印刷、2nm世代のEUV露光向けフォトマスク製造プロセス開発を本格化
2024年3月27日
