IntelとSamsungが7nmロジック量産への適用を目指すEUV露光技術(3/7)

ArF液浸露光とEUV露光の解像度の比較。ArF液浸露光のプロセス係数k1は0.26、EUV露光のプロセス係数k1は0.34と仮定した