NAを0.55の高めた次世代EUVスキャナの概要。重ね合わせ誤差の低減、マスクステージの高速化、投影光学系のNA向上と透過率向上、新しいフレーム(躯体)の導入、ウェハステージの高速化、光源の出力向上といった改良が施される。なお、手前の装置写真は現行機種「NXE : 3400」であり、左側の人物と比較することで大きさを把握できるようにしている。後方のイラストが開発中の次世代スキャナのイメージ。長さと高さがともに現行機種から拡大していることがわかる。2018年6月にASMLが国際学会「2018 EUVL Workshop」で公表したスライドから