12月2日(現地時間) 発表

　米Transmetaは2日(現地時間)、自社のリーク電流制御技術「LongRun2」を富士通株式会社にライセンス供与すると発表した。LongRun2の技術供与は、今年3月のNECエレクトロニクスに続いて2社目となる。

　富士通はLongRun2を、現行および次世代の半導体製品開発に導入する予定。現在、富士通のあきる野テクノロジセンターでは、90nmプロセスによりTransmetaのCPU「Efficeon TM8800」を製造しているが、LongRun2機能を搭載した製品は今年中にサンプル出荷を開始する。

　LongRun2はプロセッサの消費電力を下げる技術。プロセスの微細化が進み、動作周波数が高速になるに従い、プロセッサの消費電力や熱は増大するが、その半分を「リーク電流」が占める。プロセッサのしきい値電圧(Vt)を上げればリーク電流は減るが、動作速度が遅くなってしまう。LongRun2では、プロセッサの動作時に、Vtを動的に制御することで、リーク電流の削減と動作速度の向上を両立させる。具体的には、高負荷時にはVtを下げて動作速度を向上させ、低負荷時にはVtを上げリーク電流を減らすことで消費電力を削減する。

□Transmetaのホームページ(英文)
http://www.transmeta.com/
□ニュースリリース(英文)
http://investor.transmeta.com/ReleaseDetail.cfm?ReleaseID=149603
□ニュースリリース(和訳)
http://www.crusoe.jp/news/20041203.html
□富士通のホームページ
http://jp.fujitsu.com/
□関連記事
【3月25日】Transmeta、LongRun2をNECエレにライセンス
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2004/0325/transmeta.htm
【2003年10月23日】【海外】LongRun2のライセンス戦略に出るTransmeta
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2003/1023/kaigai036.htm
【2003年10月22日】【海外】画期的なリーク電流制御技術「LongRun2」
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2003/1022/kaigai035.htm

(2004年12月3日)

[Reported by date@impress.co.jp]