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Transmeta、LongRun2をNECエレにライセンス
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調印後、握手するNECエレクトロニクスの橋本副社長(左)とTransmetaのマシュー・ペリー社長 |
3月25日発表
米TransmetaとNECエレクトロニクス株式会社(NECエレ)は25日、TransmetaのLongRun2技術を、NECエレにライセンス供与すると発表した。NECエレは、90/65/45nmプロセスの半導体製品にLongRun2を導入し、ライセンス料とロイヤリティをTransmetaに支払う。
NECエレでは、90nm世代ではモバイル/基幹通信/サーバー/ワークステーション向けにLongRun2を適用。2005年末に立ち上がる65nm世代では、LongRun2を標準テクノロジとして幅広い製品に適用することを検討しており、ゆくゆくは「AC電源で動作する周辺機器やデジタル家電、AV機器向けにも採用」(橋本浩一 取締役副社長)する構え。
なおNECエレは、2003年12月に行なわれたTransmetaの増資公募に参加、普通株式を取得したことも明らかにした。この取得について橋本副社長は「LongRun2だけでなく、長期にわたる戦略的提携関係を結ぶため」と述べた。取得額等は明らかにされていないが、NECエレの山本純史 執行役員は「Transmetaの株式全体の2%以下」と述べた。
橋本副社長は「低消費電力は高集積化/高速化と並ぶ最重要課題」とし、同社が取り組んできた並列プロセッサ、オンチップ・スイッチ、ゲート電極材料などの低消費電力技術とLongRun2を組み合わせることで、より低消費電力の半導体製品による競争優位性を確保すると述べた。
提携の概要 | NECエレの低消費電力技術とLongRun2を組み合わせる | LongRun2適用のロードマップ |
発表会に登場したTransmetaのマシュー・ペリー社長兼最高経営責任者(CEO)は、「Transmetaはノンコアテクノロジのライセンスをしているが、コアテクノロジをライセンスするのはこれが初めて」と述べ、今後はライセンス事業の割合が拡大するとの見通しを明らかにした。今回の提携におけるライセンス料やロイヤリティ、売上高の見込みなどについては明らかにされていない。
ファブレス企業であるTransmetaと、多数の製造拠点を持つNECエレの提携とあって、ファウンダリ契約の有無にも関心が寄せられたが、今回の提携にファウンダリに関する事項は含まれていない。なおペリー社長は「富士通の90nm版Efficeonは、来月にサンプリングする予定」であることを明らかにした。
LongRun2はプロセッサの消費電力を下げるための技術。プロセスの微細化が進み、動作周波数が高速になるに従い、プロセッサの消費電力や熱は増大するが、その半分を「リーク電流」が占める。プロセッサのしきい値電圧(Vt)を上げればリーク電流は減るが、動作速度が遅くなってしまう。
LongRun2では、プロセッサの動作時に、Vtを動的に制御することで、リーク電流の削減と動作速度の向上を両立させる。具体的には、ゲームやDVD Video再生などの高負荷時にはVtを下げて動作速度を向上させる。一方、アイドル時やスタンバイ時はVtを上げ、リーク電流を減らすことで消費電力を削減する。
さらに、Vtが可変なので、チップごとにVtが異なる“ばらつき”に対しても許容度が広がり、歩留まりも向上する。橋本副社長は、消費電力は平均して従来の6分の1になり、チップコストも下がるとしている。
□Transmetaのホームページ
(3月25日現在、この件に関する情報は掲載されていない)
http://www.efficeon.co.jp/
□NECエレクトロニクスのホームページ
http://www.necel.com/index_j.html
□ニュースリリース
http://www.necel.com/ja/news/archive/0403/2501.html
□関連記事
【2003年10月23日】【海外】LongRun2のライセンス戦略に出るTransmeta
http://pc.watch.impress.co.jp/docs/2003/1023/kaigai036.htm
(2004年3月25日)
[Reported by tanak-sh@impress.co.jp]
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