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エルピーダ、世界最大級のDRAM工場を建設
6月10日 発表
エルピーダメモリ株式会社と、子会社の広島エルピーダメモリ株式会社は10日、世界最大級の半導体工場の建設を開始したと発表した。 新たに着手したのは、稼働中の広島エルピーダの300mm工場(300mm第一棟)の隣接地で、300mm第二棟と仮称されている。 300mm第二棟は、300mm第一棟の約2倍の述べ床面積約91,000平方mの規模で建設され、2005年6月末に竣工予定。プロセスは85nm世代で、2005年後半から量産を開始する。最大稼働時は300mmウェハ換算で月産60,000枚規模の世界最大級の半導体工場となる見込み。 総投資金額は、今後数年間で4,500億円~5,000億円程度を想定しており、主生産品であるDRAMの需要動向をみながら段階的に投資を行なうとしている。 また、300mm第一棟の生産力増強も行なわれ、現行の月産22,000枚から、2004年後半には月産28,000枚へ増産の予定。 □エルピーダメモリのホームページ (2004年6月10日) [Reported by date@impress.co.jp]
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